АНТИОТРАЖАЮЩИЕ ПОКРЫТИЯ НА ОСНОВЕ ОКСИДА ОЛОВА - Дмитриева, Е.А.; Бондарь, Е.А.; Лебедев, И.А.; Елемесов, К.К.; Kемелбекова A.E. (Academic Journal of Physical and Chemical Sciences, 2024)
В данном исследовании разработана методика получения покрытий оксида олова на основе метода спрей-пиролиза пяти-водного кристаллогидрата тетрахлорида олова в этаноле. В качестве подложки использовали монокристаллический кремний, с кристаллографической ориентацией 111. Формирование покрытий оксида олова происходило при температуре 400°C и давлении 1 Бар. Было установлено, что рост пленок оксида олова осуществляется по островковому механизму Вольмера-Вебера. Элементный анализ показал отсутствие побочных продуктов на поверхности покрытий, таких как углерод и хлор. Оптимальная толщина покрытия, минимизирующая отражение, составляет от 2,5×10⁻⁵ г/см² до 5,5×10⁻⁵ г/см², что подтверждено спектрофотометрическим анализом. Эти результаты указывают на возможность использования данных покрытий для повышения анти-отражательной способности кремниевых подложек, что может быть полезно в различных оптоэлектронных применениях.